Основні матеріали та конструкції
1) Ізостатичний пресований графітовий тигель-високої чистоти (бажано для вакуумних печей)
Рівномірне тривимірне стиснення, щільна структура, хороша ізотропія, низька пористість, висока щільність і надзвичайно низький вміст домішок; використовується для напівпровідників, росту кристалів SiC і плавлення-металів високої чистоти.
2) Просочений щільний графітовий тигель
Просочення смолою/вугільною смолою для ущільнення пор, покращення повітронепроникності, високої-рентабельності; використовується для звичайної вакуумної термічної обробки та спікання твердих сплавів.
3) Графітовий тигель із покриттям SiC/BN
Щільне покриття SiC/BN на внутрішній стінці, анти{0}}окислення, -прилипання, -вуглецеве забруднення та стійкість до ерозії металевих рідин; може короткочасно контактувати з повітрям, довший термін служби.
Основна функція
1. Над-висока чистота, надзвичайно низьке виділення газів (вакуум — це ключ)
Фіксований вуглець: 99,9% (3N) / 99,95% (4N) / 99,99% (5N)
Вміст золи: менше або дорівнює 50 ppm (4N), менше або дорівнює 10 ppm (5N); Металеві домішки (Fe, Si, Al тощо) Менше або дорівнює 5–10 ppm
Високотемпературне вакуумне виділення-: загальний вміст летких речовин менше або дорівнює 0,005% при 1600 градусах, виділення домішок менше або дорівнює 5 ppm, не забруднює розплав/деталь, не пошкоджує ступінь вакууму
2. Висока термостійкість, сильна термічна стабільність
Тривалий-термін у вакуумі/інертній атмосфері: 2200 градусів; Короткостроковий-обмеження: 2800 градусів
Повітря (без покриття): менше або дорівнює 450 градусам; Покриття SiC: 1800 градусів коротко-час використання
Коефіцієнт теплового розширення (25–1000 градусів): 1,8–2,2 × 10⁻⁶ / градус (надзвичайно низький); Термоциклічна деформація Менше або дорівнює 0,01 мм/м, без розтріскування, без деформації
Виробничий процес
Графітовий порошок високої-чистості → Холодне ізостатичне пресування → Графітізація при високій{3}} температурі 2800–3000 градусів → Просочення та ущільнення (опціонально) → Точна обробка з ЧПК → Покриття SiC/BN (опціонально) → Очищення, сушіння, виявлення витоків → Перевірка якості (COA, SGS) → Упаковка
Основні сфери застосування
Напівпровідники/фотоелектричні пристрої: вирощування монокристалів SiC, плавлення кремнієвих матеріалів, відпал пластин, PECVD, термічний тигель
Вакуумна металургія: титан, вольфрам, молібден, дорогоцінні метали, рідкісні метали вакуумна плавка / дистиляція
Порошкова металургія: цементований карбід, неодим, залізо, бор, керамічне вакуумне спікання
Вакуумна термічна обробка: високотемпературні-сплави, спеціальні сталі, вакуумне гартування/пайка
Пропозиції щодо вибору:
Над-вакуум (від 10⁻⁵ до 10⁻⁶ Па) + напівпровідник / матеріали високої{4}}чистоти → ізостатичний графітовий тигель високої{6}}чистоти 5N
Звичайні вакуумні печі, спікання/плавлення → 4N ізостатичний/просочений графітовий тигель (висока економічна-ефективність)
Схильність до окислення, ерозії металевої рідини, анти{0}}прилипання → графітовий тигель із покриттям SiC/BN
| Пункт | Ізостатичний-високої чистоти | Просочений | SiC покриттям | Хвороба |
|---|---|---|---|---|
| Фіксований вуглець | Більше або дорівнює 99,95%/99,99% | Більше або дорівнює 99,9% | Більше або дорівнює 99,95% | RT |
| Насипна щільність | 1,85–1,92 г/см³ | 1,75–1,85 г/см³ | 1,88–1,92 г/см³ | RT |
| пористість | Менше або дорівнює 1,5% | Менше або дорівнює 3% | Менше або дорівнює 1,5% | RT |
| Постійна температура (вакуум) | 2200 градусів | 2100 градусів | 2200 градусів | Ar/N₂ |
| CTE (25–1000 градусів) | 1,8–2,2×10⁻⁶/градус | 2,0–2,5×10⁻⁶/градус | 1,9–2,3×10⁻⁶/градус | / ступінь |
| Теплопровідність | 150–180 W/(m·K) | 120–150 W/(m·K) | 140–170 W/(m·K) | RT |
Популярні Мітки: графітові тиглі для вакуумних печей, графітові тиглі для вакуумних печей у Китаї, виробники, постачальники, фабрика
